В данный момент чипы памяти уже можно производить по 30-нанометровому техпроцессу, логические микросхемы – по 42-нанометровому. Компания Toshiba решила разрушить стереотипы и анонсировала германиевый полевой транзистор на основе 16-нанометрового техпроцесса. Это примерно в два раза меньше, чем самая тонкая технология сегодняшнего дня. Для достижения задуманного Toshiba собирается использовать германид стронция – германий обеспечивает более высокий потенциал по сравнению с используемым ныне кремнием, однако реализация технологии доставляет слишком много хлопот. Заметим, производителям придется побороть все трудности в недалеком будущем – кремний уже близок к пределу своих возможностей. Toshiba надеется представить документацию по 16-нанометровому техпроцессу на следующей неделе.